藍寶石長晶爐熱場

  石英連熔爐用件

  工業爐用鎢鉬部件

  醫療輻射屏蔽
menu
menu  半導體離子注入
menu
menu  工業配重用件
menu
menu  濺射靶材
menu
menu  氬弧焊電阻焊用電極
menu
menu  電子熱沉及封裝 menu
menu
menu  電光源及電真空零件
menu
menu  核聚變ITER項目用件

現在位置:首頁 >> 產品應用 >> 半導體離子注入  

半導體離子注入技術是一種材料表面改性高新技術,在半導體材料摻雜,金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應用,在當代制造大規模集成電路中,可以說是一種必不可少的手段。

基本原理
用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去,離子束與材料中的原子或分子將發生一系列物理的和化學的相互作用,入射離子逐漸損失能量,最后停留在材料中,并引起材料表面成分、結構和性能發生變化,從而優化材料表面性能,或獲得某些新的優異性能。

離子注入的優點是能精確控制雜質的總劑量、深度分布和面均勻性,而且是低溫工藝(可防止原來雜質的再擴散等),同時可實現自對準技術(以減小電容效應)。

 


作為一種材料表面工程技術,離子注入技術具有以下一些其它常規表面處理技術難以達到的獨特優點

  • 純凈的無公害的表面處理技術
  • 無需在高溫環境下進行,無需熱激活,不會改變工件的外形尺寸和表面光潔度
  • 與基體之間不存在剝落問題
  • 離子注入后無需再進行機械加工和熱處理

ATTL為客戶提供大束流、中束流、高能離子源用鎢鉬精密部件。

 


安泰天龍鎢鉬科技有限公司 版權所有 ©2017 www.attl.cn www.rloxfk.live 京ICP備16033339號 網站地圖
電話:022-59213388(分機號:670,671,673,668) 傳真:022-59213399 郵箱:[email protected] [email protected] 公司地址:天津市寶坻經濟開發區寶中道10號 301800
单双全年固定公式规律